• 板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)

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    板式透明导电薄膜沉积设备(RPD/PAR)


      技术特点  Features  

    · PVD具有多阶阴极，，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。。。。

    · RPD具有无高能离子轰击衬底特点，，，能制备高少子迁移率的TCO。。。。



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